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La plaque épitaxiale est fabriquée en monocristaux au silicium de 100 et 150 mm de diamètre. La plaque épitaxiale est destinée à l’utilisation dans l’industrie de semi-conducteurs. L’épitaxie est un procédé lors duquel l’on applique sur le substrat du silicium monocristallin une autre couche de silicium monocristallin.
ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o.
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